国度学问产权局信息高慢，朗姆商议公司央求一项名为“使用钝化和定向性等离子体的原子层蚀刻”的专利，公开号CN121694053A，央求日历为2024年7月。

专利节录高慢，提供了对于衬底上特征的钝化原子层蚀刻的示例。所公开的示例可有助于幸免深度负载。一示例提供了用于现实衬底的原子层蚀刻(ALE)的措施。措施包含现实多个原子层蚀刻轮回。原子层蚀刻轮回包含在改性措施中使用含卤素化合物酿成等离子体以酿成衬底的特征内的卤假名义。特征包含15nm或更小的特征宽度。多个原子层蚀刻轮回中的原子层蚀刻轮回进一步包含在去除措施中使用惰性气体酿成定向性等离子体以蚀刻特征的卤假名义。措施进一步包含现实钝化措施，博亚体育(中国)钝化措施包含将衬底露出于含钝化剂的等离子体以钝化特征的侧壁名义。

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